1. 核心架构
质量分析器:三重四极杆(Q0+Q1+Q2)
质量范围:0.3–295 amu,覆盖全元素及同位素
分辨率:单位质量 + 化学高分辨,0.1–2.0 amu 连续可调
检测器:脉冲 / 模拟双模式,线性范围 10⁻¹⁵~10⁷ ppm
2. 离子光学与干扰消除
Q0:高压离子偏转,零中性粒子,降低背景
Q1:四极杆通用池,三气路(He/H₂/O₂),碰撞 / 反应 / 质量转移
Q2:高分辨四极杆,单位质量 / 高分辨双模式
三锥接口:第二代 OmniRing™,大孔径抗堵塞、低记忆效应
3. 进样与基体耐受
采样 / 截取锥:耐 HF / 高盐镍锥(2200G 为超净锥)
AMS:在线气体稀释,最高 200 倍,可处理 **≤35% TDS** 高盐样品
EDR:智能电子稀释,一次进样覆盖 10⁻¹⁵~10⁷ ppmresources.perkinelmer.com
雾化室:惰性材质,低吸附、低残留
4. 等离子体与射频
射频发生器:34 MHz LumiCoil 风冷线圈,功率 400–1600 W,免维护
氩气消耗:8–10 L/min(1300 W)
炬管:水平安装,自动定位 ±0.05 mm
5. 关键性能
检出限:亚 ppt 级(Li、Be、B、Fe、Cu、Zn、As、Cd、Pb 等)
背景等效浓度(BEC):≤0.1 ppt(典型元素)
稳定性:同位素比值 RSD <0.1%,长期漂移 <2%/8h
样品通量:>3500 样品 / 月,维护时间 <0.8%
6. 合规标准
满足 ISO 17294、ICH Q3D、USP <232>、GB 38402 等规范
| 对比项目 | NexION 2200 | NexION 2200G |
|---|---|---|
| 产品定位 | 通用中高端三重四极杆 ICP-MS | 半导体高纯专用三重四极杆 ICP-MS |
| 核心架构 | 三重四极杆(Q0+Q1+Q2) | 三重四极杆(Q0+Q1+Q2) |
| 锥组材质 | 标准镍锥 | 高纯铂 / 超净镀镍锥 |
| 管路 / 腔体 | 常规 PFA、标准腔体涂层 | 超高纯 PFA,腔体电解抛光 + 钝化处理 |
| 背景等效浓度 BEC | ≤0.1~1 ppt | ≤0.05~0.1 ppt,本底更低 |
| TDS 耐受上限 | ≤35% | ≤35% |
| 反应池配置 | 三气路(He/H₂/O₂) | 三气路(He/H₂/O₂) |
| 核心适用行业 | 环境、食品、制药、常规锂电、通用化工、科研 | 半导体全制程、高纯电子化学品、超纯水、晶圆检测、高端锂电高纯原料 |
| 配套方法包 | 通用分析方法包 | SEMI 标准、VPD 晶圆分析专用方法包 |
| 安装环境 | 常规洁净实验室 | ISO 7/8 级超净间 |
| 同位素 RSD | <0.1% | <0.1% |
| 维护成本 | 低,耗材性价比高 | 偏高,高纯类配件价格更高 |
| 价格区间 | 中等 | 中高,较 2200 上浮 30%-60% |